ME 4 NT 隔膜泵
ME 4 NT 隔膜泵 隔膜泵是针对非腐蚀气体的一种持续的、无油抽气的优秀解决方案。所有与所抽介质接触的部……...
LAUDA Semistat 等离子刻蚀温度控制系统,通过对静电卡盘 (ESC,E-chuck) 的动态温度控制,为等离子刻蚀应用提供稳定的温度控制。LAUDA Semistat基于 Peltier 元件传热理论设计,与传统压缩机系统相比,可以节省高达90%的能耗。体积小,占地空间少,可选择安装在地板下的夹层中,节省洁净室空间。LAUDA Semistat 可以快速和精准地将过程温度控制在 ±0.1 K,从而提高晶圆间均质性。
产品特点:
无压缩机和制冷剂的低能耗系统,运行安静、振动小
带清洁干燥空气 (CDA) 吹扫接口,可防止冷凝水产生
结构紧凑,重量轻,占地面积小,非常适合安装于地板之下导热液体用量极少
无需过滤器或 DI 组件
水冷型
典型应用:
在半导体生产中,等离子蚀刻是工艺链的核心部分,有干法蚀刻和湿法蚀刻之分。在干法蚀刻中,半导体板(晶片)在真空蚀刻室中进行等离子处理。等离子体中的离子轰击晶片,从而使材料脱离。例如,硅晶片上的氧化层可以用这种方法去除,然后涂上掺杂层(添加了外来原子,因此具有一定的导电性)。
等离子体的温度会影响蚀刻的速度和效率。如果温度过低,等离子体就不够活跃,无法有效地烧蚀材料。如果温度过高,材料可能会被过度烧蚀,导致误差和损坏。因此,在半导体生产中,对等离子体温度进行精确的控制非常重要,因为晶片的加工范围在微米和纳米之间。即使温度发生微小变化,也会导致蚀刻结构的尺寸和形状发生显著变化。LAUDASemistat 可以为干法蚀刻这一敏感工艺提供专门的温度控制解决方案。
产品参数:
工作温度范围 -20℃ ... 90 °C
温度稳定性 0.1°C
加热器功率最小 6 kW
最小填充容量 1.25 L
最大填充容量 1.6 L
外形尺寸(宽 x 深 x 高) 116 x 300 x 560 mm
重量 25 kg
冷却功率输出
根据不同的工艺温度和冷却水流量
LAUDA Semistat 等离子刻蚀温度控制系统
同系列其他型号
ME 4 NT 隔膜泵 隔膜泵是针对非腐蚀气体的一种持续的、无油抽气的优秀解决方案。所有与所抽介质接触的部……...
MD 4C NT 化学隔膜泵 三级化学隔膜泵是针对腐蚀性气体和蒸汽的一种持续的、无油抽气的优秀解决方案,可……...
ME 1C 化学隔膜泵 真空抽滤是化学、微生物、废水控制和其他分析过程等最常用的一种样品制备方法。全新ME……...
MD 1 VARIO-SP VARIO®-SP隔膜泵 MD 1 VARIO-SP三级隔膜泵采用可变转速驱动系统,具有更大的抽速和更好的……...
LAUDA ULTRACOOL 节能冷水机,步入温控新阶段 LAUDA Ultracool 节能冷水机 -10-3……...
MD 1 隔膜泵 MD 1隔膜泵是针对非腐蚀性气体的无油抽气的极佳选择,其极限真空可达1.5mbar。和相似比率的……...
PC 610 select 化学真空系统 对于需要进行电子控制蒸发或干燥(包含许多高沸点溶剂)过程的应用,我们的PC 600系列化学真空系统是一个很好的选择。备受欢迎的MD 4C NT三级化学隔膜泵,其极限真空度为2mbar,是这……
LAUDA ECO 外循环加热制冷恒温浴槽 LAUDA ECO 系列,操作简单,应用广泛,提供 Silver 浸入式恒温器(黑白的 LCD 显示屏)或者 Gold 浸入式恒温器(彩色 TFT 显示屏)两种类型,有不同的接……
MZ 2C NT +AK SYNCHRO+EK 化学真空系统 该化学真空系统用一个泵可同时操作两个不同的应用。主要用于连接旋转蒸发仪、真空浓缩仪和真空干燥箱。每个真空接口配一个手动流量控制阀来调节有效抽速。进气口的分离瓶(……