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MD 1C +AK+EK 化学真空系统
MD 1C +AK+EK 化学真空系统 该款化学真空系统广泛应用于排气、蒸发或者气体抽取等过程。它可满足高沸点溶剂更高的真空需求，常用来取代旋片泵。主要用于连接旋转蒸发仪和真空干燥箱。进气口的分离瓶（AK）为玻璃……
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MD 1C +AK+EK 化学真空系统
MD 1C +AK+EK 化学真空系统 该款化学真空系统广泛应用于排气、蒸发或者气体抽取等过程。它可满足高沸点溶剂更高的真空需求，常用来取代旋片泵。主要用于连接旋转蒸发仪和真空干燥箱。进气口的分离瓶（AK）为玻璃……
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PC 3012 NT VARIO select EKP 化学隔膜泵
PC 3012 NT VARIO select EKP 化学隔膜泵 PC 3012 NT VARIO select真空系统能精确控制真空度，以实现无与伦比的工艺过程控制。该泵抽速大，极限真空度高，适用于要求较高的高沸点溶剂应用。在小试实验室，公斤级……
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PC 3010 NT VARIO select VARIO®化学真空系统
PC 3010 NT VARIO select VARIO®化学真空系统 PC 3010 NT VARIO select真空系统能精确控制真空度，以实现无与伦比的工艺过程控制。该泵抽速大，极限真空度能达到几分之一毫巴，适用于在低温条件下要求较高的高沸……
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MD 12 NT VARIO select 隔膜泵
MD 12 NT VARIO select 隔膜泵 此款三级隔膜泵是针对非腐蚀性气体持续的、无油抽气的优秀解决方案，拥有极好的极限真空度，能达到1.5mbar。由于它的抽速大，对于高气载应用或要求快速抽气到负压状态的真空箱体，……
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LAUDA Alpha 外循环加热制冷恒温浴槽RA 8
LAUDA Alpha 外循环加热制冷恒温浴槽 - LAUDA Alpha RA8 Alpha 为温度范围从-25到100℃应用提供了可靠的技术，是实验室大部分基础温度控制应用的解决方案。Alpha 保留了大部分必要的功能，可……
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LAUDA Semistat 等离子刻蚀温度控制系统S 2400
LAUDA Semistat 等离子刻蚀温度控制系统，通过对静电卡盘 (ESC，E-chuck) 的动态温度控制，为等离子刻蚀应用提供稳定的温度控制。LAUDA Semistat基于 Peltier 元件传热理论设计，与传统压缩……
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MD 4C VARIO select VARIO® 变频化学隔膜泵
MD 4C VARIO select VARIO® 变频化学隔膜泵 对于使用高沸点溶剂的实验室应用，MD 4C VARIO select是一个很好的解决方案。该泵的三级隔膜配置使其的极限真空度能达到1.5 mbar。 集成式的VACUU·SELECT真空控制器搭……
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MD 4 NT 隔膜泵
MD 4 NT 隔膜泵 此类三级隔膜泵是针对非腐蚀性气体的持续的、无油抽气的优秀解决方案。它们具有卓越的极限真空，可达1mbar。所有与所抽气体或蒸汽接触的部件都由铝、不锈钢和经仔细选择的塑料等材质制成，可广泛……
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ME 4C NT 化学隔膜泵
ME 4C NT 化学隔膜泵 专为化学设计的隔膜泵是针对腐蚀性气体和蒸汽的一种持续的、无油抽气的优秀解决方案。单级泵的结构同时具有抽气速度大和达70mbar的极限真空的优点。所有与被抽介质接触的主要部件均由化学防……
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LAUDA Variocool 生物工艺用冷却水循环系统VC 2000 W
LAUDA Variocool 生物工艺用冷却水循环系统 -20-80℃/0.05℃ LAUDA Variocool 工艺过程恒温器，结构紧凑，功能强大，灵活多变，能够处理-20℃至80℃温度范围内，复杂过程的温度控制，是LAUDA……
